酸化/揮散試験機


本試験機は、室温から2000℃までの温度環境下において、ガス雰囲気中に置いた材料を急速加熱し、試験材料の酸化状態や、高温での材料の耐久性・耐熱衝撃性・耐酸化性・耐揮散性を評価でき、さまざまな雰囲気下や宇宙空間と同様な高真空下において、試験片が分解・揮散する状態を測定する装置です。



加熱方式 キセノンランプ
加熱温度 Max.2000℃
試験片 30mm□、Max 100g
温度計測 放射温度計,熱電対
重量測定 電子天秤



本試験機は、ガス雰囲気中に置いた材料を急速加熱し、高温での材料の耐久性・耐熱衝撃性・耐酸化性・耐揮散性などを評価する装置です。
最大出力30kWのキセノンランプの発光を、金メッキした回転楕円面ミラーで試料位置に集光し、急速加熱した後、一定温度に保持することが出来ます。大気中での加熱の他に、石英ドーム中に試料を入れることにより、試料周辺の雰囲気を制御することが出来ます。現在、Ar、N2、O2ガスが導入でき、酸素分圧を変えたり、真空度を変えた雰囲気で試料を加熱できます。
放射率0.85程度の材料で、1800℃まで数分で加熱できます。低温度ならば勤務時間内(8時間程度)の連続加熱もできます。試料表面の温度を放射温度計で計測するほか、資料裏面の温度を熱電対で計測することもできます。
試料の加熱温度制御は、ランプの放電電流、試料設置位置、光路に挿入する減光メッシュなどで行います。
材料の熱衝撃性の比較からスクリーニングが乾式にて容易にできます。また各種コーティングの耐久性の評価も可能です。
なお、熱衝撃破壊応力の定量的検討には、一定加熱率で片面を加熱したときの熱応力解析が要求されます。




oxidation




・酸化揮散試験・セラミックタイル熱伝導率バイアス評価・C/C(炭素系複合材料)の高温酸化・α-SiCの水蒸気酸化・Si3N4の高温酸化・コーティング3D-C/Cの高温加熱試験・SiCコーティングC/Cの高温加熱試験・セラミックスの酸化揮散・大気中高温酸化試験・2D-C/Cの酸化試験



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